JPS4949703A - - Google Patents
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- Publication number
- JPS4949703A JPS4949703A JP9193672A JP9193672A JPS4949703A JP S4949703 A JPS4949703 A JP S4949703A JP 9193672 A JP9193672 A JP 9193672A JP 9193672 A JP9193672 A JP 9193672A JP S4949703 A JPS4949703 A JP S4949703A
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- JP
- Japan
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- Granted
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9193672A JPS5423574B2 (en]) | 1972-09-13 | 1972-09-13 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9193672A JPS5423574B2 (en]) | 1972-09-13 | 1972-09-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS4949703A true JPS4949703A (en]) | 1974-05-14 |
| JPS5423574B2 JPS5423574B2 (en]) | 1979-08-15 |
Family
ID=14040465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9193672A Expired JPS5423574B2 (en]) | 1972-09-13 | 1972-09-13 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5423574B2 (en]) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5136932A (ja) * | 1974-09-25 | 1976-03-29 | Unitika Ltd | Kankoseisoseibutsu |
| JPS61194441A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-28 | ウセベ ソシエテ アノニム | 接着材樹脂組成物 |
| JPS62164045A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-20 | ロ−ム アンド ハ−ス コンパニ− | ネガフオトレジスト組成物およびネガ画像の形成方法 |
| JPH0252348A (ja) * | 1988-06-25 | 1990-02-21 | Hoechst Ag | 高エネルギー照射線硬化可能な組成物及び高エネルギー照射線記録法 |
| JPH04110945A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Mitsubishi Kasei Corp | ネガ型感光性組成物 |
| JPH04136941A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-11 | Mitsubishi Kasei Corp | ネガ型感光性組成物 |
| JPH04215658A (ja) * | 1990-12-13 | 1992-08-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | ネガ型感放射線性レジスト組成物 |
| US6794109B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-09-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Low abosorbing resists for 157 nm lithography |
| WO2019098338A1 (ja) * | 2017-11-20 | 2019-05-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法 |
-
1972
- 1972-09-13 JP JP9193672A patent/JPS5423574B2/ja not_active Expired
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5136932A (ja) * | 1974-09-25 | 1976-03-29 | Unitika Ltd | Kankoseisoseibutsu |
| JPS61194441A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-28 | ウセベ ソシエテ アノニム | 接着材樹脂組成物 |
| JPS62164045A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-20 | ロ−ム アンド ハ−ス コンパニ− | ネガフオトレジスト組成物およびネガ画像の形成方法 |
| JPH0252348A (ja) * | 1988-06-25 | 1990-02-21 | Hoechst Ag | 高エネルギー照射線硬化可能な組成物及び高エネルギー照射線記録法 |
| JPH04110945A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Mitsubishi Kasei Corp | ネガ型感光性組成物 |
| JPH04136941A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-11 | Mitsubishi Kasei Corp | ネガ型感光性組成物 |
| JPH04215658A (ja) * | 1990-12-13 | 1992-08-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | ネガ型感放射線性レジスト組成物 |
| US6794109B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-09-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Low abosorbing resists for 157 nm lithography |
| WO2019098338A1 (ja) * | 2017-11-20 | 2019-05-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法 |
| JPWO2019098338A1 (ja) * | 2017-11-20 | 2020-12-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用膜、レジストパターン形成方法、及び回路パターン形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5423574B2 (en]) | 1979-08-15 |